掃描電子顯微鏡(搭載EBSD探頭)測(cè)試

測(cè)試樣例

1)    樣例1 2)    樣例1

適用領(lǐng)域

金屬、合金材料

面向?qū)W科

材料、機(jī)械等相關(guān)學(xué)科

樣品要求

1、可以直接做EBSD數(shù)據(jù)采集的樣品的基本要求：樣品能產(chǎn)生計(jì)算機(jī)可以識(shí)別且能正確標(biāo)定的菊池衍射花樣、表面平整、清潔、無殘余應(yīng)力、導(dǎo)電性良好、尺寸合適，數(shù)據(jù)采集處理需提供樣品中各相的物相以及晶體結(jié)構(gòu)及原子占位信息，元素種類等，以及晶體學(xué)信息：晶體學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù)，ICCD，或者皮爾斯手冊(cè)，再就是XRD標(biāo)定用的PDF卡片里面。若不符合直接測(cè)試要求，需要選擇合適的制樣方法。 2、 樣品尺寸要求：形狀規(guī)整，尺寸不宜太大，長(zhǎng)寬不超過10mm，厚度不超過5mm，測(cè)試面需要表面光滑，沒有明顯劃痕。其他特殊需求請(qǐng)聯(lián)系； 3、 樣品的制備條件參考：金屬樣品：機(jī)械拋光+化學(xué)侵蝕（硬度較高、原子序數(shù)大）；機(jī)械拋光+電解拋光（純金屬/第二相細(xì)小的合金）； 金屬基復(fù)合材料：同上或者氬離子拋光（拋光區(qū)域較小，一般800*800微米左右） 陶瓷樣品：機(jī)械拋光、 氬離子拋光 4、測(cè)試面需要標(biāo)記清楚，如需要特殊區(qū)域定位，請(qǐng)附上SEM圖片或者光學(xué)圖片給出具體定位信息； 5、寄送樣品請(qǐng)固定好樣品，測(cè)試面不要觸碰到任何表面，避免表面劃傷;

收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)

1)    振動(dòng)拋光制樣 500元/樣； 硅溶膠機(jī)械拋光制樣 800元/樣 ； 氬離子拋光制樣：1000元/樣； 2)    標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試 700元/視圖（一般采集時(shí)間半小時(shí)內(nèi)，超時(shí)后根據(jù)具體情況收取費(fèi)用），每個(gè)視圖指一個(gè)區(qū)域一個(gè)倍數(shù)下，如果一個(gè)區(qū)域需要多個(gè)倍數(shù)，則為多個(gè)視圖，視圖大小一般為微米級(jí)，區(qū)域越大，采集時(shí)間越長(zhǎng)，最大區(qū)域一般不超過1mm，如采集時(shí)間、步長(zhǎng)等有要求，請(qǐng)?zhí)崆奥?lián)系項(xiàng)目經(jīng)理

測(cè)試儀器

    儀器名稱:掃描電子顯微鏡（搭載EBSD探頭）     儀器型號(hào):FEI Nova Nano SEM/ 蔡司Sigma 500/ 蔡司 dual beam FESEM（搭載EBSD探頭和原位拉伸臺(tái)）      關(guān)鍵字:EBSD、取向、晶粒、織構(gòu)、極圖、物相分析